超純水系統(tǒng)（ULTRE PURE WATER，簡(jiǎn)稱UPW）是指從原水（通常為自來(lái)水或者產(chǎn)線回收水）經(jīng)由多重過(guò)濾，離子交換，逆滲透，紫外線殺菌，UV酸化裝置，脫氣膜、高純度樹脂、超濾所產(chǎn)生的極高程度純水系統(tǒng)。
超純水的規(guī)格因應(yīng)用而異，但通常應(yīng)具有18.2 MΩ-CM 或更高的電阻率，低水平的離子（如鈉、鉀和鈣），低水平的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物，低水平的細(xì)菌和顆粒物，中性pH值為7.0。
此外，超純水可以進(jìn)一步凈化以滿足特定要求，例如半導(dǎo)體制造中低硅酸鹽含量。因此被譽(yù)為半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件等領(lǐng)域的工業(yè)血脈。超純水處理的標(biāo)準(zhǔn)為末端出水電阻率≥18MΩ。
清洗
半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中，硅片需要經(jīng)歷多次的蝕刻、沉積、光刻等步驟。在每個(gè)步驟之后，都需要使用超純水進(jìn)行清洗，以去除殘留在硅片上的化學(xué)物質(zhì)和微小雜質(zhì)。雜質(zhì)如果不清洗干凈，將會(huì)對(duì)后續(xù)的制程步驟產(chǎn)生影響，甚至可能導(dǎo)致產(chǎn)品性能下降。
冷卻
半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備在運(yùn)行過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量的熱量。超純水因其良好的熱導(dǎo)率和純度，常被用作設(shè)備的冷卻劑，幫助保持設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行。
濕蝕刻和化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）
在某些濕蝕刻或者化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）過(guò)程中，超純水作為制程介質(zhì)使用。超純水的純度能夠保證這些過(guò)程的精度和質(zhì)量。
稀釋劑
在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，許多化學(xué)品需要稀釋后使用，超純水就是理想的稀釋劑。
光刻
在光刻過(guò)程中，超純水也被用于清洗和沖洗光阻涂層，以確保光刻質(zhì)量。
源邦團(tuán)隊(duì)與國(guó)際著名水處理公司有豐富的合作經(jīng)驗(yàn)，充分吸收國(guó)外先進(jìn)制程超純水處理技術(shù)。通過(guò)自主研發(fā)設(shè)計(jì)，掌握電阻率≥18MΩ超純水制備技術(shù)。團(tuán)隊(duì)成員參編《GB 51035-2014 電子工業(yè)純水系統(tǒng)安裝與驗(yàn)收規(guī)范》；獲得《中國(guó)安裝協(xié)會(huì)科學(xué)技術(shù)進(jìn)步三等獎(jiǎng)》，并在該領(lǐng)域獲得專利授權(quán)三項(xiàng)。
水質(zhì)規(guī)格高
針對(duì)各地水質(zhì)特點(diǎn)，制定方案，以達(dá)到用水標(biāo)準(zhǔn)
設(shè)備成本低
優(yōu)化方案，為客戶降本增效
響應(yīng)速度快
全國(guó)24小時(shí)應(yīng)急機(jī)制